(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210592335.1 (22)申请日 2022.05.27 (71)申请人 宁波润华全芯微电子设备有限公司 地址 315400 浙江省宁波市余 姚市阳明街 道新桥村村委东首 (72)发明人 刘长伟　耿克涛　姜岩松　陈理　 (74)专利代理 机构 浙江中桓凯通专利代理有限 公司 33376 专利代理师 李美宝 (51)Int.Cl. B08B 3/02(2006.01) B08B 3/14(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种用于液体防护的 晶圆清洗装置 (57)摘要 本发明公开了一种用于液体防护的晶圆清 洗装置， 其特征在于， 包括： 安装盘， 所述安装盘 包括安装盘本体、 开设于所述安装盘本体中心的 安装孔， 以及设于所述安装盘本体顶 面并围绕所 述安装孔的挡板； 承片部， 所述承片部包括承片 台、 支撑柱和挡液罩， 所述支撑柱设于所述安装 孔， 所述承片台连接所述支撑柱顶部， 所述挡液 罩围绕所述支撑柱， 并且所述挡液罩覆盖所述安 装孔。 本发明解决了晶圆进行清洗时， 液体从承 片台周侧进入安装盘底部， 导致驱动和传动的结 构损坏的问题。 权利要求书1页 说明书6页 附图5页 CN 114871182 A 2022.08.09 CN 114871182 A 1.一种用于液体防护的 晶圆清洗装置， 其特 征在于， 包括： 安装盘， 所述安装盘包括安装盘本体、 开设于所述安装盘本体中心的安装孔， 以及 设于 所述安装盘本体顶面并围绕所述 安装孔的挡板； 承片部， 所述承片部包括承片台、 支撑柱和挡液罩， 所述支撑柱设于所述安装孔， 所述 承片台连接所述支撑柱顶部， 所述挡 液罩围绕所述支撑柱， 并且所述挡 液罩覆盖所述安装 孔。 2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述挡液罩包括： 避让槽， 所述避 让槽朝向所述挡板； 其中， 所述挡板的顶部与所述挡液罩底部齐平或所述挡板的顶部伸入所述避让槽中。 3.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述挡液罩包括： 第 一导向面， 所 述第一导向面朝向所述承片台， 所述第一导向面连接所述支撑柱的侧面和所述挡液罩的侧 面。 4.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述承片部包括： 第 二导向面， 所 述第二导向面朝向所述挡液罩， 所述第二导向面连接所述承片台的侧面和所述支撑柱的侧 面。 5.根据权利要求1 ‑4任一项所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述晶圆清洗装置还包 括： 驱动装置和输出轴， 所述输出轴连接所述驱动装置； 所述支撑柱包括轴孔， 所述输出轴安装至所述轴孔内。 6.根据权利要求5所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述支撑柱和所述安装孔之间设 有间隙。 7.根据权利要求5所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述晶圆清洗装置还包括： 真空 管道和真空装置； 其中， 所述真空管道穿过所述承片台、 所述支撑柱、 所述输出轴和所述驱动装置， 所述 真空装置设于所述驱动装置底部或所述驱动装置一侧， 所述真空装置连通所述真空管道。 8.根据权利要求5所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述支撑柱还包括： 密封槽和密 封件， 所述密封 槽开设于所述轴孔内壁， 所述密封件设于所述密封 槽。 9.根据权利要求5所述的 晶圆清洗装置， 其特 征在于， 所述晶圆清洗装置还 包括： 冷却装置， 所述冷却装置设于所述驱动装置和所述安装盘之间， 所述冷却装置包括冷 却管道， 所述冷却管道 环绕所述输出轴设置 。 10.根据权利要求9所述的晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述安装盘包括第 一限位槽， 所 述第一限位槽环绕所述 安装孔， 并与所述冷却装置配合； 和/或， 所述驱动装置包括第二限位槽， 所述第二限位槽环绕所述输出轴， 并与所述冷 却装置配合。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114871182 A 2一种用于液体防护的晶圆清洗装 置 技术领域 [0001]本发明涉及半导体行业晶圆领域， 尤其涉及一种用于液体防护的 晶圆清洗装置 。 背景技术 [0002]目前， 在晶圆加工过程中， 需要去除晶圆表面残留的有机物、 颗粒、 金属杂质、 自然 氧化层、 石英、 塑料等污染物， 且不破坏晶圆的表面特性。 因此， 需要对晶圆进行多次清洗 。 [0003]在单个晶圆的清洗工序中， 一般将晶圆放置在承片台上， 通过承片台周侧的喷嘴 喷洒清洗液来冲洗晶圆， 同时， 承片台转动， 使晶圆的清洗效果更好。 但是， 清洗液会随承片 台的侧面流动至承片台底部， 接触驱动承片台和传动的结构， 导致导致驱动和传动的结构 损坏。 发明内容 [0004]因此， 本发明提供一种用于液体防护的晶圆清洗装置， 有效解决晶圆进行清洗时， 液体从承片台周侧进入安装盘底部， 导 致驱动和传动的结构损坏的问题。 [0005]本发明提供一种用于液体防护的晶圆清洗装置， 包括： 安装盘， 所述安装盘包括安 装盘本体、 开设于所述安装盘本体中心的安装孔， 以及设于所述安装盘本体顶面并围绕所 述安装孔的挡板； 承片部， 所述承片部包括承片台、 支撑柱和挡液罩， 所述支撑柱设于所述 安装孔， 所述承片台连接所述支撑柱顶部， 所述挡液罩围绕所述支撑柱， 并且所述挡液罩覆 盖所述安装孔。 [0006]与现有技术相比， 采用该技术方案后所达到 的技术效果： 所述安装盘用于容纳清 洗所需的喷嘴等装置， 同时， 收集清洗晶圆后流下的清洗液， 阻挡清洗液进入安装盘下方； 所述承片台用于支撑晶圆， 部 分清洗液尤其是清洗晶圆背部的清洗液沿所述支撑台的底面 和所述支撑柱的侧 面流下， 因所述挡 液罩覆盖所述安装孔， 所述挡 液罩能够引导清洗液滴 落至所述安装盘的上表面， 避免清洗液进入所述安装孔； 另外保留所述安装孔， 可以使所述 支撑柱转动更加顺畅。 [0007]进一步的， 所述挡液罩包括： 避让槽， 所述避让槽朝向所述挡板； 其中， 所述挡板的 顶部与所述挡液罩底部齐平或所述挡板的顶部伸入所述避让槽中。 [0008]采用该技术方案后所达到的技术效果： 所述避让槽能够避免所述挡液罩的底面与 所述挡板的顶部接触或干涉， 使得所述承片部的转动过程能够更加 顺畅， 不会与所述挡板 发生摩擦； 所述挡板的顶部与所述挡 液罩底部齐平或所述挡板的顶部伸入所述避让槽中， 使得所述挡液罩能够更加有效地阻挡来自侧面的清洗液， 提高防水效果。 [0009]进一步的， 所述挡液罩包括： 第一导向面， 所述第一导向面朝向所述承片台， 所述 第一导向面连接所述支撑柱的侧面和所述挡液罩的侧面。 [0010]采用该技术方案后所达到的技术效果： 所述第一导向面能够引导清洗液沿所述挡 液罩的外壁流动， 便于清洗液 的收集， 避免清洗液积 留于所述挡液罩顶面； 同时， 所述第一 导向面为倾斜状态， 能够提高所述挡 液罩与所述支撑柱的连接强度， 使所述挡液罩起到更说　明　书 1/6 页 3 CN 114871182 A 3