说明:最全电力标准
(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210560693.4 (22)申请日 2022.05.23 (71)申请人 江西铭瑞陶瓷有限公司 地址 336000 江西省宜 春市高安市高新 技 术产业园 (田南 镇黄付公路) (72)发明人 张伟 游昊  (74)专利代理 机构 南昌合达信知识产权代理事 务所(普通 合伙) 36142 专利代理师 王玉琳 (51)Int.Cl. B24B 7/22(2006.01) B24B 41/02(2006.01) B24B 41/06(2012.01) B24B 47/00(2006.01) B24B 41/00(2006.01)B08B 3/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种釉面 砖打磨清洗装置 (57)摘要 本发明涉及一种打磨清洗装置, 尤其涉及一 种釉面砖打磨清洗装置。 本发明提供一种能够对 釉面砖表面均匀打磨抛光的釉面砖打磨清洗装 置。 本发明提供了这样一种釉面砖打磨清洗装 置, 包括: 支 撑台, 支撑台左上部固接有第一支 撑 架; 水箱, 第一支撑架顶部转动式设置有水箱; 喷 头, 水箱底部连接有喷头, 喷头贯穿第一支撑架 中部; 第二支撑架, 支撑台左上部固接有第二支 撑架, 第二支撑架位于第一支撑架右侧。 通过第 一推动块带动第一滑杆向左移动, 能够使第一滑 杆带动导轨板前后移动, 进而使打磨机带动第一 滑块前后移动, 从而实现了打磨机能够对釉面砖 表面进行均匀打磨的功能。 权利要求书2页 说明书5页 附图9页 CN 114833666 A 2022.08.02 CN 114833666 A 1.一种釉面 砖打磨清洗装置, 其特 征是, 包括: 支撑台(1), 支撑台(1)左上部固接有第一支撑架(2); 水箱(3), 第一支撑架(2)顶部转动式设置有水箱(3); 喷头(4), 水箱(3)底部连接有喷头(4), 喷头(4)贯 穿第一支撑架(2)中部; 第二支撑架(5), 支撑台(1)左上部固接有第二支撑架(5), 第二支撑架(5)位于第一支 撑架(2)右侧; 第一滑块(61), 第二支撑架(5)上部滑动式设置有第一滑块(61); 打磨机(6), 第一滑块(61)上固接有打磨机(6); 推动机构(7), 支撑台(1 )顶部右侧设置有用于推动釉面砖的推动机构(7); 限位机构 (8), 推动机构(7)与支撑台(1)上设置有用于限制釉面 砖移动位置的限位机构(8); 上料机构(10), 支撑台(1)内设置有便 于对釉面 砖进行上料的上料机构(10)。 2.如权利要求1所述的一种釉面 砖打磨清洗装置, 其特 征是, 推动机构(7)包括: 控制器(71), 支撑台(1)右上部固接有控制器(71); 第一电动推杆(72), 支撑台(1)右上部固接有第一电动推杆(72), 控制器(71)的左侧通 过电线与第一电动推杆(72)连接; 第一推动块(73), 第一电动推杆(72)的伸缩端固接有第一推动块(73)。 3.如权利要求2所述的一种釉面 砖打磨清洗装置, 其特 征是, 限位机构(8)包括: 限位板(81), 支撑台(1)左上部的前后两侧均固接有限位板(81), 限位板(81)位于第二 支撑架(5)内侧; 空心管(82), 第一推动块(73)前后两侧均固接有空心管(82); 夹紧件(83), 两个空心管(82)内均滑动式设置有夹紧件(83); 第一弹性件(84), 两个空心管(82)外端与相近的夹紧件(83)之间均连接有第一弹性件 (84), 第一弹性件(84)套在夹紧件(83)上; 第二滑块(85), 两个夹紧件(83)左部外侧均固接有第二滑块(85), 两个限位板(81)右 部内侧为斜面, 第二滑块(85)向左移动能与限位板(81)的斜面接触, 两个限位板(81)内侧 均开有滑槽(86), 第二滑块(85)能够 在滑槽(86)内滑动。 4.如权利要求3所述的一种釉面 砖打磨清洗装置, 其特 征是, 上料机构(10)包括: 置料板(101), 支撑台(1)前侧右部固接有两个置料板(101); 送料件(102), 支撑台(1)中部内滑动式设置有送料件(102), 送料件(102)顶部右侧为 斜面, 送料件(102)与支撑台(1)内顶部接触, 支撑台(1)上部的中部开有方形通孔(1021), 送料件(102)位于方 形通孔(1021)下 方; 第二弹性件(105), 送料件(102)下部与支撑台(1)之间连接有两个第二弹性件(105), 两个第二弹性件(10 5)套在送料件(102)上; 第二电动推杆(103), 支撑台(1)内右部固接有第二电动推杆(103), 控制器(71)右侧通 过电线与第二电动推杆(10 3)连接; 第二推动块(104), 第二电动推杆(10 3)的伸缩端固接有第二推动块(104)。 5.如权利要求4所述的一种釉面砖打磨清洗装置, 其特征是, 还包括有用于控制打磨机 (6)前后移动的摆动机构(9), 摆动机构(9)包括: 第一滑杆(91), 第一推动块(73)顶部固接有第一滑杆(91);权 利 要 求 书 1/2 页 2 CN 114833666 A 2固定架(93), 打磨机(6)上部固接有固定架(93); 导轨板(92), 固定架(93)下部右侧固接有导轨板(92), 第一滑杆(91)在导轨板(92)内 滑动。 6.如权利要求5所述的一种釉面砖打磨清洗装置, 其特征是, 还包括有用于控制喷头 (4)转动的旋转机构(1 1), 旋转机构(1 1)包括: 第二滑杆(1 12), 第一支撑架(2)左侧上部固接有第二滑杆(1 12); 第三滑块(1 14), 第二滑杆(1 12)上滑动式设置有第三滑块(1 14); 第三弹性件(113), 第三滑块(114)右侧与第一支撑架(2)左侧之间连接有第三弹性件 (113), 第三弹性件(1 13)套在第二滑杆(1 12)上; 传动组件(111), 打磨机(6)、 喷头(4)和第三滑块(114)之间设置有传动组件(111), 传 动组件(111)由三个皮带轮和一个平皮带组成, 打磨机(6)的输出轴上设置有皮带轮, 喷头 (4)下部设置有皮带轮, 第三滑块(114)底部转动式设置有皮带轮, 三个皮带轮上绕有平皮 带。 7.如权利要求6所述的一种釉面砖打磨清洗装置, 其特征是, 还包括有用于输送釉面砖 的传输机构(12), 传输 机构(12)包括: 右侧的置料板(101)右侧固接有安装座(121); 电机(122), 安装座(121)内安装有电机(12 2); 输送组件(123), 两个置料板(101)之间设置有输送组件(123), 输送组件(123)由两个 皮带轮和一个输送带组成, 电机(122)的输出轴上固接有皮带轮, 两个置料板(101)后侧之 间转动式设置有皮带轮, 两个皮带轮上绕有输送带。 8.如权利要求7所述的一种釉面砖打磨清洗装置, 其特征是, 第二弹性件(105)为压缩 弹簧。权 利 要 求 书 2/2 页 3 CN 114833666 A 3

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