(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202122966143.6 (22)申请日 2021.11.25 (73)专利权人 深圳市浩天源环保科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市宝安区松岗街 道江边社区第一工业区创业二路48号 1楼 (72)发明人 钟裕辉　钟裕林　 (74)专利代理 机构 深圳市优一知识产权代理事 务所(普通 合伙) 44522 专利代理师 宣士艳 (51)Int.Cl. C02F 9/04(2006.01) C02F 101/36(2006.01) C02F 101/14(2006.01) (54)实用新型名称 高氟废水除去 装置 (57)摘要 本实用新型提供了一种高氟废水除去装置， 包括一级除氟组件和设于所述一级除氟组件一 侧的二级除氟组件。 上述高氟废水除去装置， 通 过一级除氟组件向废水中投加石灰乳， 使pH值达 到11.5～12.0时， 加一定量絮凝剂和助凝剂通过 沉淀得到清亮的水， 在一级除氟完成后， 通过二 级除氟组件将pH值(投加硫 酸)调整到6.5～7.0， 然后分2到3次投加沉氟剂(硫酸铝)， 最后通过二 次沉淀， 使氟离 子达到去除目的。 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 CN 216837415 U 2022.06.28 CN 216837415 U 1.一种高氟废水除去装置， 其特征在于， 包括一级除氟组件和设于所述一级除氟组件 一侧的二级除氟组件， 所述一级除氟组件包括第一反应池、 设于所述第一反应池一侧的石 灰乳投放机构、 与所述第一反应池连接的第二反应池、 设于所述第二反应池一侧的絮凝剂 投放机构、 与所述第二反应池连接的第三反应池、 设于所述第三反应池一侧的助凝剂投放 机构， 以及与所述第三反应池连接的一级沉淀池， 所述二级除氟组件包括与所述一级沉淀 池连接的第四反应池、 设于所述第四反应池一侧的硫酸投放机构、 与所述第四反应池连接 的至少两个第五反应池、 至少 两个沉氟剂投放机构， 以及与所述第 五反应池连接的二级沉 淀池， 每一所述第五反应池的一侧均设有一个所述 沉氟剂投放机构。 2.根据权利要求1所述的高氟废水除去装置， 其特征在于， 所述第一反应池、 所述第二 反应池、 所述第三反应池、 所述第四反应池以及所述第五反应池内均设有搅拌机构。 3.根据权利要求2所述的高氟废水除去装置， 其特征在于， 所述搅拌机构包括机械搅拌 机或风动式搅拌机中的任何一种。 4.根据权利要求1所述的高氟废水除去装置， 其特征在于， 所述第 二反应池内设有第 一 pH值测量计。 5.根据权利要求1所述的高氟废水除去装置， 其特征在于， 所述第四反应池内设有第 二 pH值测量计。 6.根据权利要求2所述的高氟废水除去装置， 其特征在于， 所述搅拌机构的搅拌速度为 60～120转/分钟。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216837415 U 2高氟废水除去 装置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及废水处 理技术领域， 特别涉及一种高氟废水除去装置 。 背景技术 [0002]随着工业不断的发展， 自动化要求越来越高， 人们的生活方式不断提高， 目前所使 用的触摸屏越来越多， 质量要求高， 发展迅速。 在触摸屏生产过程中， 需使用一定量的氢氟 酸， 导致生产过程所排出废水含有一定量浓度的氟离 子。 [0003]因此， 需要设计一种高氟废水除去装置， 以使废水中的氟离子达到  GB8978‑1996 《污水综合 排放标准》 一级标准。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的是提供一种高氟废 水除去装置， 以使得触摸屏生产过程中的废 水达到GB8978 ‑1996 《污水综合 排放标准》 一级标准的问题。 [0005]本实用新型提供了一种高氟废 水除去装置， 包括一级除氟组件和设于所述一级除 氟组件一侧的二级除氟组件， 所述一级除氟组件包括第一反应池、 设于所述第一反应池一 侧的石灰乳投放机构、 与所述第一反应池连接的第二反应池、 设于所述第二反应池一侧的 絮凝剂投放机构、 与所述第二反应池连接的第三反应池、 设于所述第三反应池一侧的助凝 剂投放机构， 以及与所述第三反应池连接的一级沉淀池， 所述二级除氟组件包括与所述一 级沉淀池连接的第四反应池、 设于所述第四反应池一侧的硫酸投放机构、 与所述第四反应 池连接的至少 两个第五反应池、 至少 两个沉氟剂投放机构， 以及与所述第 五反应池连接的 二级沉淀池， 每一所述第五反应池的一侧均设有一个所述 沉氟剂投放机构。 [0006]上述高氟废水除去装置， 通过一级除氟组件向废水中投加石灰乳， 使pH值达到 11.5～12.0时， 加一定量絮凝剂和助凝剂通过沉淀得到清亮的水， 在一级除氟完成后， 通过 二级除氟组件将pH值调整到6.5～7.0， 然后分2到3次投加沉氟剂(硫酸铝)， 最后通过二次 沉淀， 使氟离 子达到去除目的。 [0007]进一步地， 所述第一反应池、 所述第二反应池、 所述第三反应池、 所述第四反应池 以及所述第五反应池内均设有搅拌机构。 [0008]进一步地， 所述搅拌机构包括机 械搅拌机或风动式搅拌机中的任何一种。 [0009]进一步地， 所述第二反应池内设有第一pH值测量计。 [0010]进一步地， 所述第四反应池内设有第二pH值测量计。 [0011]进一步地， 所述搅拌机构的搅拌速度为6 0～120转/分钟。 附图说明 [0012]图1为本实用新型第一实施例中的高氟废水除去装置； [0013]图2为本实用新型第二实施例中的高氟废水除去装置 。 [0014]主要元件符号说明：说　明　书 1/3 页 3 CN 216837415 U 3